巴斯夫将在德国路德维希港新建电子级氢氧化铵生产装置

2025-10-30

2025 年 10 月 30 日，巴斯夫宣布在德国路德维希港新建电子级氢氧化铵生产装置，2027 年投产，将满足欧洲半导体产业对超纯化学品的需求，助力本地供应链稳定与先进芯片发展。

尖端设施助力欧洲先进半导体产业发展
新增产能满足欧洲芯片制造不断增长的需求

德国路德维希港 —— 2025 年 10 月 30 日 —— 巴斯夫今日宣布将在德国路德维希港增设一座先进的电子级氢氧化铵（NH4OH EG）生产装置。该装置将用于支持晶圆清洗、蚀刻及其他半导体制造中的精密工艺。这一关键的超纯化学品将助力欧洲半导体企业的成长与扩张，确保先进芯片生产所需的本地供应链稳定。

此举体现了巴斯夫持续致力于增强欧洲半导体产业供应链韧性的承诺，这对于在快速发展的技术市场保持科技竞争力至关重要。全新生产装置预计将于 2027 年投入运营。

随着欧洲多个全新芯片生产装置的建设或扩建，市场对高质量、高纯度半导体级化学品（如氢氧化铵）的需求与日俱增。这一需求受到巴斯夫一家密切合作伙伴的加速推动，他们目前正在欧洲建设新的芯片生产装置。巴斯夫此次投资半导体化学品价值链主要基于与其战略合作伙伴之间长期互信的客户与供应商承诺。

新装置生产的电子级氢氧化铵将广泛应用于先进制程芯片技术，推动下一代半导体的发展，对欧洲关键产业（如汽车、人工智能等）意义重大。

巴斯夫高级副总裁、全球电子材料业务负责人黎博曼（Jens Liebermann）表示：“客户将巴斯夫视为其在市场发展中的长期战略合作伙伴，这样的信任使我们深感荣幸与感谢。”巴斯夫全球营运总裁葛毕莱（Gops Pillay）补充道：“这项新投资不仅提升了我们的技术能力，也进一步彰显了我们对欧洲半导体产业的坚定承诺与深度参与。”

巴斯夫致力于推动创新与可持续发展，这一全新装置将在推动半导体产业发展与为欧洲经济作出贡献方面发挥重要作用。

巴斯夫是向半导体行业提供高纯度单一散装化学品和专用化学配方的全球领先供应商，这些化学品对于半导体制造至关重要。巴斯夫提供全面的材料产品组合，主要用于半导体生产工艺，包括清洗、蚀刻、光刻、金属沉积和化学机械抛光。

文章内容来源巴斯夫，流程工业整理编辑，责任编辑：胡静，审核人：李峥