陶氏化学电子材料全球研发中心正式落成

发布时间：2012-05-25

陶氏化学公司宣布陶氏首尔技术中心正式落成.该中心是陶氏化学的全球研发中心,着重推动显示器和半导体相关应用的技术进步,这也是陶氏在亚洲的重要投资举措之一,将极大提升公司为该地区的电子材料产业客户服务的能力.

2012年3月21日，陶氏化学公司宣布陶氏首尔技术中心正式落成。该中心是陶氏化学的全球研发中心，着重推动显示器和半导体相关应用的技术进步，这也是陶氏在亚洲的重要投资举措之一，将极大提升公司为该地区的电子材料产业客户服务的能力。

陶氏首尔技术中心

陶氏首尔技术中心坐落在Hwaseong, Gyeonggi-do，这里是为半导体和显示器技术领域客户服务的重要战略位置。该中心共五层，占地23700m2，预计聘用约300人。

包括这一新的研发中心在内，陶氏近十年来在韩国投资超过4亿美元，旨在建立半导体、显示器和LED的先进生产基地，并拓展电子材料领域的业务。

陶氏首尔技术中心的研发重点领域包括光刻机、有机发光二极管（OLED）、显示材料、高级芯片封装，全力支持陶氏的业务增长。该中心将成为陶氏OLED研发的全球中心所在，并配备尼康193纳米沉浸式扫描仪和300纳米机台设备，陶氏化学电子材料业务部门因此成为世界上唯一一个在韩国拥有193i应用开发设备的抗光阻供应商。陶氏在韩国天安的设施还有一部193纳米的干式扫描仪，这样的投资组合使陶氏极大缩短了产品开发周期和制造时间，从而满足客户的更高要求。