盖米硅片清洗设备

发布时间：2013-04-19

硅片生产好之后，为了便于运输，它们会被装在晶片承载器中。这里提到的装置是用来清洗这些硅片承载器的。

这些承载器被手工钩入一个晶片笼，然后这个笼子被水的液压降低到容器中并且用一个盖子密封起来(见由上图)。

容器中安装有几个水和气的喷嘴(功能图如下所示)。对于去离子水和压缩空气两种介质，低压喷嘴(可达2bar)和高压喷嘴(可达6bar)都是可用的。在晶片笼旋转清洗的过程中要使用去离子水和压缩空气。这样是为了确保承载器的所有部位都被去离子水均匀喷涂。然后，使用无菌空气风干晶片，风干的最后会使用红外线灯。

盖米600超纯隔膜阀控制了去离子水的主要供给装置。在这里，通过多通道阀组，去离子水被分配到容器中的各个喷嘴中。去离子水的温度为60°C。

无菌热空气(大约60°C)通过盖米554角座阀被送入装置中，并且也被多通道阀组转移到相应的扩散器中。这个过程是和用去离子水清洗同步执行的。

再生的废气通过配备有双作用四分之一转气动头的盖米451蝶阀排放。随后产生的凝聚物通过盖米610隔膜阀排放。

一个带有电子位置指示器的盖米410蝶阀在用过的去离子水这里起到排水阀的作用。

对于超纯领域的装置，从经济角度考虑要给安装位置(安装需要的地方)一个更为重要的外形轮廓。

由于需要大量的水和气的喷嘴，设备内部需要安装许多的阀门。因此尺寸比较小的组合阀更加适合安装在清洁容器的周围，使装置变得更加紧凑节省空间。

由于有多种材料可选，所以可以提供满足不同介质需求的多种解决方案。

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